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致力于高端涂層技術(shù)的研究和推廣
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DLC涂層是一種非晶態(tài)塑料薄膜，大部分可以分成含氫類金鋼石(a-C:H)鍍層，和無氫類金鋼石鍍層。含氫DLC涂層的氫成份在20%--50%正中間，SP3成分小于70%。無氫DLC涂層中廣泛的是四面體非晶碳（ta-c）膜，ta-c鍍層中以sp3鍵核心，一般高過70%。DLC塑料薄膜具有高韌性和高彈..
2020-08-25真空鍍膜就是指在高真空條件下，根據(jù)加熱金屬或非金屬材料，使其揮發(fā)并凝固在鍍件(金屬、半導(dǎo)體材料或?qū)w和絕緣體)表層產(chǎn)生塑料薄膜的方式。比如，真空鍍鋁膜、真空不銹鋼等。真空鍍膜是真空主要用途的一個(gè)關(guān)鍵層面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，運(yùn)用物理學(xué)或有機(jī)化學(xué)方式，消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等離子技術(shù)束..
2020-08-15DLC涂層有著各種各樣的特點(diǎn),這也為擁有作用確立的智能表層的新品的開發(fā)設(shè)計(jì)造就了標(biāo)準(zhǔn)。DLC涂層優(yōu)質(zhì)的鍍層特性使其足以完成產(chǎn)業(yè)發(fā)展生產(chǎn)制造并獲得普遍的運(yùn)用,這種發(fā)展趨勢激起了許多科研單位和企業(yè)項(xiàng)目投資進(jìn)一步的科學(xué)研究并推動(dòng)了全部產(chǎn)業(yè)鏈向未來邁入了一步。 DLC涂層不但具備出色的耐磨性能，并且具備很..
2020-08-08PVD涂層技術(shù)的特點(diǎn)是：高韌性、高耐磨性能、有很好的耐腐蝕性和膜層長壽命等特點(diǎn)。有機(jī)化學(xué)可靠性。能夠進(jìn)一步提高產(chǎn)品工件表層的耐磨性能和外型裝飾設(shè)計(jì)型。PVD涂層堆積速度比較慢，色調(diào)單一，薄厚勻稱，追求完美的是膜層的性能卓越,立即堆積在產(chǎn)品工件表層，不用鎳或別的內(nèi)搭。表層具備高韌性、耐磨擦、耐熱、耐腐..
2020-07-31真空鍍膜專業(yè)性是應(yīng)用物理、分析化學(xué)方法將固體表面涂覆一層與眾不同特點(diǎn)的表面的表層的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防電磁波輻射、導(dǎo)電率、吸磁、電纜護(hù)套和設(shè)計(jì)裝飾等許多好于固體原料本身的優(yōu)點(diǎn)能，保證提高產(chǎn)品質(zhì)量、提升產(chǎn)品使用期、節(jié)約能源和獲得顯著專業(yè)性經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍..
2020-07-25大家都了解發(fā)動(dòng)機(jī)中的活塞環(huán)安裝在活塞外壁上的凹形槽中，而且活塞環(huán)的外圓上表層密不可分地粘附在汽缸的內(nèi)腔上。當(dāng)活塞在汽缸中左右反復(fù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，環(huán)狀表層持續(xù)刮擦汽缸內(nèi)腔，造成更大的磨擦損害和更差的工作中標(biāo)準(zhǔn)?；钊h(huán)一般在發(fā)動(dòng)機(jī)中起導(dǎo)向性、傳熱和密封性功效。因而，緊緊圍繞他們發(fā)展趨勢起來的DLC涂層技術(shù)性立即..
2020-07-18真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性。在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進(jìn)被鍍物件的表層上。該項(xiàng)技術(shù)性最開始用以生產(chǎn)制造光學(xué)激光鏡片，如遠(yuǎn)洋航行望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后拓寬到別的作用塑料薄膜，游戲設(shè)備鍍鋁膜、裝飾設(shè)計(jì)表層的鍍膜和原材料表層改性材料等。如腕表機(jī)殼鍍仿金黃，機(jī)械設(shè)備..
2020-07-11類金剛石薄膜是一類特性類似金剛石如具備高韌性、高電阻、抗腐蝕、優(yōu)良的電子光學(xué)特性等,另外其又具備本身與眾不同固體力學(xué)特點(diǎn)的非晶碳膜。做為作用塑料薄膜與維護(hù)塑料薄膜，其廣泛運(yùn)用于機(jī)械設(shè)備、電子器件、電子光學(xué)、醫(yī)藥學(xué)、航空航天等行業(yè)中。類金剛石薄膜制取方式非常簡單,易完成現(xiàn)代化，具備普遍的應(yīng)用前景?！ ?.
2020-07-03PVD涂層主要包括多弧電鍍和磁控濺射電鍍。該多弧電鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，易于操作。其離子蒸發(fā)源可由電焊機(jī)供電，引弧過程也類似于電焊。具體地說，在一定的工藝壓力下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，并斷開與放電氣體的連接。由于多弧電鍍的原因主要是通過連續(xù)移動(dòng)弧斑在蒸發(fā)源表面連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)沉積在襯底上得到..
2020-06-20
DLC涂層是一種非晶態(tài)塑料薄膜，大部分可以分成含氫類金鋼石(a-C:H)鍍層，和無氫類金鋼石鍍層。含氫DLC涂層的氫成份在20%--50%正中間，SP3成分小于70%。無氫DLC涂層中廣泛的是四面體非晶碳（ta-c）膜，ta-c鍍層中以sp3鍵核心，一般高過70%。DLC塑料薄膜具有高韌性和高彈..
真空鍍膜就是指在高真空條件下，根據(jù)加熱金屬或非金屬材料，使其揮發(fā)并凝固在鍍件(金屬、半導(dǎo)體材料或?qū)w和絕緣體)表層產(chǎn)生塑料薄膜的方式。比如，真空鍍鋁膜、真空不銹鋼等。真空鍍膜是真空主要用途的一個(gè)關(guān)鍵層面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，運(yùn)用物理學(xué)或有機(jī)化學(xué)方式，消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等離子技術(shù)束..
DLC涂層有著各種各樣的特點(diǎn),這也為擁有作用確立的智能表層的新品的開發(fā)設(shè)計(jì)造就了標(biāo)準(zhǔn)。DLC涂層優(yōu)質(zhì)的鍍層特性使其足以完成產(chǎn)業(yè)發(fā)展生產(chǎn)制造并獲得普遍的運(yùn)用,這種發(fā)展趨勢激起了許多科研單位和企業(yè)項(xiàng)目投資進(jìn)一步的科學(xué)研究并推動(dòng)了全部產(chǎn)業(yè)鏈向未來邁入了一步。 DLC涂層不但具備出色的耐磨性能，并且具備很..
PVD涂層技術(shù)的特點(diǎn)是：高韌性、高耐磨性能、有很好的耐腐蝕性和膜層長壽命等特點(diǎn)。有機(jī)化學(xué)可靠性。能夠進(jìn)一步提高產(chǎn)品工件表層的耐磨性能和外型裝飾設(shè)計(jì)型。PVD涂層堆積速度比較慢，色調(diào)單一，薄厚勻稱，追求完美的是膜層的性能卓越,立即堆積在產(chǎn)品工件表層，不用鎳或別的內(nèi)搭。表層具備高韌性、耐磨擦、耐熱、耐腐..
真空鍍膜專業(yè)性是應(yīng)用物理、分析化學(xué)方法將固體表面涂覆一層與眾不同特點(diǎn)的表面的表層的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防電磁波輻射、導(dǎo)電率、吸磁、電纜護(hù)套和設(shè)計(jì)裝飾等許多好于固體原料本身的優(yōu)點(diǎn)能，保證提高產(chǎn)品質(zhì)量、提升產(chǎn)品使用期、節(jié)約能源和獲得顯著專業(yè)性經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍..
大家都了解發(fā)動(dòng)機(jī)中的活塞環(huán)安裝在活塞外壁上的凹形槽中，而且活塞環(huán)的外圓上表層密不可分地粘附在汽缸的內(nèi)腔上。當(dāng)活塞在汽缸中左右反復(fù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，環(huán)狀表層持續(xù)刮擦汽缸內(nèi)腔，造成更大的磨擦損害和更差的工作中標(biāo)準(zhǔn)?；钊h(huán)一般在發(fā)動(dòng)機(jī)中起導(dǎo)向性、傳熱和密封性功效。因而，緊緊圍繞他們發(fā)展趨勢起來的DLC涂層技術(shù)性立即..
真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性。在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進(jìn)被鍍物件的表層上。該項(xiàng)技術(shù)性最開始用以生產(chǎn)制造光學(xué)激光鏡片，如遠(yuǎn)洋航行望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后拓寬到別的作用塑料薄膜，游戲設(shè)備鍍鋁膜、裝飾設(shè)計(jì)表層的鍍膜和原材料表層改性材料等。如腕表機(jī)殼鍍仿金黃，機(jī)械設(shè)備..
類金剛石薄膜是一類特性類似金剛石如具備高韌性、高電阻、抗腐蝕、優(yōu)良的電子光學(xué)特性等,另外其又具備本身與眾不同固體力學(xué)特點(diǎn)的非晶碳膜。做為作用塑料薄膜與維護(hù)塑料薄膜，其廣泛運(yùn)用于機(jī)械設(shè)備、電子器件、電子光學(xué)、醫(yī)藥學(xué)、航空航天等行業(yè)中。類金剛石薄膜制取方式非常簡單,易完成現(xiàn)代化，具備普遍的應(yīng)用前景?！ ?.
PVD涂層主要包括多弧電鍍和磁控濺射電鍍。該多弧電鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，易于操作。其離子蒸發(fā)源可由電焊機(jī)供電，引弧過程也類似于電焊。具體地說，在一定的工藝壓力下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，并斷開與放電氣體的連接。由于多弧電鍍的原因主要是通過連續(xù)移動(dòng)弧斑在蒸發(fā)源表面連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)沉積在襯底上得到..